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Argomento della ricerche attuali è lo sviluppo di un nuovo modello che descriva lo scattering rattivo di idrogeno molecolare da parte di superfici metalliche, dove è considerato anche l'effetto dei fononi.

Quando si studia lo scattering reattivo di idrogeno da superfici metalliche, la maggior parte delle teorie si basa sull'utilizzo di modelli dove gli atomi del metallo non si muovono. Gli atomi della superficie del metallo sono solitamente posizionati, in queste simulazioni, nelle posizioni previste dalla struttura del loro reticolo ideale. Tutti gli studi effettuati usando questi tipi di modello però non riescono a riprodurre in modo accurato il comportamento osservato negli esperimenti. Non è ancora del tutto chiaro cosa causa questa differenza fra risultati sperimentali e modellistici, ma spesso questa differenza è attribuita a due assunzioni fatte in questi modelli:
1) trascurare l'effetto fononico
2) trascurare l'eccitazione della coppia elettrone-lacuna.

Attualmente su Leiden Classical si sta considerando la prima approssimazione, in modo da includere nei loro modelli l'effetto del movimento degli atomi sulla superficie. Per far questo è in via di sviluppo una nuova applicazione basata sui precedenti lavori. Mark Wijzenbroek, il responsabile di questo lavoro, ha modificato il codice che simula lo scattering di idrogeno su una superficie di rame, introducendo ulteriore corrugatione e anisotropia nella dinamica. I responsabili del progetto credono che l'aggiunta di questa corrugazione e anisotropia abbia un grande effetto sulle quantità sperimentali misurabili.

L'obiettivo è in conclusione quello di verificare se l'inclusione o meno di questo effetto fononico abbia un effetto considerevole sulle quantità misurate.

I primi risultati di questo lavoro sono accessibili su questo report (http://boinc.gorlaeus.net/download/DownLoads/phonon/MSc_report.pdf) e su questo poster (http://boinc.gorlaeus.net/download/DownLoads/phonon/MSc_poster.pdf) preparati da Mark Wijzenbroek. Un articolo è stato anche pubblicato sul Journal of Chemical Physics (http://jcp.aip.org/resource/1/jcpsa6/v137/i5/p054703_s1?isAuthorized=no).

 



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